45-28nm制程半导体光掩膜版制造项目(浙江省宁波市)
大型

项目地址：

定位

项目概况

更新时间： 2024-06-18（发布：2024-06-18）

项目阶段： 2024-06-18处于主体施工开工

建设周期： --

项目类型：工业

面积：

投资金额： 330000万

建设性质：新建

甲方类型：私营企业

项目描述

拟用地约68.8亩

项目工期及阶段

工程备注： 2024-6-18跟踪记录：1、手续办理情况：该项目前期手续已办理。2、设计完成情况：该项目设计已完成，由信息产业电子第十一设计研究院科技工程股份有限公司负责。3、土建施工情况：该项目正在土建施工，由中国电子系统工程第四建设有限公司负责。4、设备采购情况：该项目部分设备已采购。5、项目变化情况：该项目阶段未发生变化，增加了业主方、设计方的联系人及联系方式。